La disposizione molecolare del film PEEK amorfo è più caotica, non esiste un'area di cristallizzazione evidente.
Film PEEK semicristallino nella disposizione molecolare più ordinata, alcuni dei quali formavano una struttura cristallina, ci sono anche regioni amorfe.
Caratteristiche prestazionali: il film PEEK semicristallino ha elevata resistenza e rigidità, pur mantenendo un certo grado di flessibilità, la sua densità è relativamente elevata, buone proprietà meccaniche.
Applicazioni: grazie alle buone proprietà meccaniche e alla stabilità chimica, i film in PEEK semicristallino sono comunemente utilizzati in applicazioni che richiedono elevata resistenza e rigidità, come nell'industria aerospaziale, automobilistica, nei dispositivi elettronici, ecc.
Una pellicola di polietere etere chetone (PEEK) caricata con minerali è un materiale realizzato aggiungendo riempitivi minerali (fibre di vetro, fibre di carbonio, nero di carbonio, silicati di calcio e magnesio) a una matrice di polietere etere chetone.
Il film in PEEK è fondamentale per l'elettronica e l'isolamento, poiché presenta ottime proprietà di isolamento elettrico, resistenza alla temperatura e un'elevata resistenza chimica. Il film in PEEK offre stabilità alle applicazioni di corrente elettrica e agli ambienti ad alta temperatura, ormai comuni nella maggior parte dei dispositivi. Questo termoplastico semicristallino ad altissime prestazioni, utilizzato in circuiti stampati, connettori e rivestimenti per cavi, rende i prodotti elettronici sostenibili e sicuri.
Guarnizioni per motori CD e DVD, pellicole per altoparlanti, substrati di circuiti stampati, substrati di antenne 5G e altri componenti correlati, supercondensatori
Guarnizioni di tenuta, rondelle reggispinta, isolamento motore, circuiti stampati ad alta temperatura
Avvolgitori di cavi per petrolio e gas, etichette RFID, isolamento di fili di solenoidi, sensori di pressione, riscaldatori di pellicole flessibili, dispositivi per nastri trasportatori, etichette ad alte prestazioni
Anche il settore aerospaziale ha fatto ampio uso del film in PEEK, grazie al suo peso ridotto, all'elevata resistenza alla trazione e alla forte resistenza chimica. Il fatto che il film in PEEK soddisfi la maggior parte delle esigenze aerospaziali lo rende un materiale eccellente per l'impiego in componenti sottoposti ad ambienti difficili. Gli interni degli aeromobili, l'isolamento dei cavi e i componenti strutturali utilizzano questo materiale termoplastico ad alte prestazioni, che garantisce prestazioni e sicurezza migliorate.
Pellicole isolanti, particolari termoformati, compositi in fibra di carbonio, nastri adesivi multifunzionali
Telai per lucidatura vetri a cristalli liquidi, trasportatori per wafer di silicio, nastri trasportatori per wafer e vetro
Tabella delle proprietà del film PEEK | |||
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Proprietà | Metodo di prova | Unità | Valore |
Densità | ASTM D792 | g/cm³ | 1.26~1.29 |
Acqua media | ASTM D570 | % | 0.04 |
Equilibrio di assorbimento,24 ore | |||
Restringimento termico | ISO 11501 (200℃) | % | 0.8~4.7 |
Trazione | ASTM D882 | MPa | 70~90 |
Forza al rendimento (MD) | |||
Trazione | ASTM D882 | MPa | 68~86 |
Forza al rendimento (TD) | |||
Trazione | ASTM D882 | MPa | 120~186 |
Forza alla rottura (MD) | |||
Trazione | ASTM D882 | MPa | 112~115 |
Forza alla rottura (TD) | |||
Allungamento | ASTM D882 | % | 186~225 |
Ultimo (MD) | |||
Allungamento | ASTM D882 | % | 145~180 |
Ultimo (TD) | |||
Trazione | ASTM D882 | MPa | 1993~2755 |
Modulo (MD) | |||
Trazione | ASTM D882 | MPa | 1964~2568 |
Modulo (TD) | |||
Punto di fusione | ISO11357 | ℃ | 343 |
Coefficiente di | ISO11359 | ppm/K | 55~60 |
Espansione termica (< Tg) | |||
Bicchiere | ISO11357 | ℃ | 153 |
Temperatura di transizione | |||
Dielettrico | ASTM D149 | KV/mm | 150 |
Resistenza (25 μm) | |||
Volume | ASTM D257 | Ω·m | 10^16 |
Resistività @25°C,50%RH | |||
Dielettrico | ASTM D150 (50 MHz) | 3.12~3.3 | |
Costante (50 MHz) | |||
Perdita tangente | ASTM D150 (50 MHz) | 0.004~0.005 | |
(50 MHz) |
Nome dei prodotti | Colore | Struttura | Spessore (μm) | larghezza (mm) |
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film di sbirciatina | natura o nero | lucido/lucidato | 100-250 | 1360 |
lucido/opaco | 250-400 | 1360 | ||
Opaco/Opaco | 500-800 | 680 |
La scelta del film in PEEK per applicazioni particolarmente esigenti è dovuta a una combinazione di proprietà che includono un'elevata resistenza alle alte temperature, eccellenti caratteristiche di resistenza chimica e buone prestazioni meccaniche. Il film in PEEK, in quanto termoplastico ad alte prestazioni, presenta ottime caratteristiche di resistenza alle alte temperature; questo lo rende adatto ad ambienti in cui altri materiali non sarebbero in grado di garantire prestazioni elevate. La sua eccellente resilienza agli agenti chimici dimostra l'integrità del film in PEEK, poiché l'esposizione a sostanze chimiche aggressive non ne compromette la funzionalità, il che ne rafforza indubbiamente l'impiego in applicazioni cruciali. È inoltre affidabile grazie alle sue buone proprietà meccaniche e alla sua tenacità.
Nella scelta del film in PEEK più adatto, è necessario tenere in considerazione alcuni fattori per garantirne l'idoneità all'applicazione prevista. Questi sono l'intervallo di temperatura di esercizio, l'esposizione agli agenti chimici e le proprietà meccaniche desiderate. La scelta corretta implica anche il raggiungimento della tenacità e della resistenza all'usura richieste. È quindi necessaria un'attenta valutazione nella scelta del miglior film in PEEK ad alte prestazioni per applicazioni ad alto stress.
Il film in PEEK è personalizzabile in numerose opzioni per soddisfare le esigenze di ogni specifica applicazione. Queste possono essere rappresentate da diversi spessori, larghezze o trattamenti superficiali per favorire l'adesione o ridurre al minimo l'attrito. È inoltre possibile aggiungere additivi e colorazioni personalizzate per conferire un determinato isolamento elettrico o conduttività termica. Gli ingegneri sono in grado di personalizzare il film in PEEK per ottenere prestazioni ottimali, grazie a queste possibilità di personalizzazione ad alte prestazioni.